Adhesion of dental sealants to enamel with self-etching adhesives in salivary contamination conditions: Influence of the light curing protocol

Abstract

Purpose

To evaluate the influence of the light curing protocol in the shear bond strength of a sealant to enamel treated with two self-etching adhesive systems, in salivary contamination conditions.

Materials and Methods

The dental sealant (Delton, Dentsply) was applied, after saliva contamination, onto the vestibular enamel of sixty human incisors treated with Xeno III (Dentsply) or Prompt-L-Pop (3M/Espe). These two groups were further divided into two subgroups (n = 15) according to the curing time: 1) the adhesive system was cured with the sealant (co-polymerization), and 2) adhesive and sealant were light cured independently (independent polymerization). After the adhesive procedures, specimens were stored in water (37 °C–24 h) and thermal-cycled. Shear bond strength tests were done in an universal testing machine. Data was analyzed with two-way ANOVA.

Results

There were no statistical differences (p = 0.267) between the adhesive systems tested. The co-polymerization groups (33.3 ± 9.4 MPa) yielded statistically higher shear bond strength values than the independent polymerization groups (28.2 ± 4.7 MPa). Even with saliva contamination, the self-etching adhesive systems used yielded high shear bond strength values.

Conclusions

In the conditions tested, the co-polymerization of the adhesive systems with the sealant led to higher bond strength values to enamel than the independent polymerization.

Resumo

Objectivos

Avaliar a influência do momento da fotopolimerização de dois sistemas adesivos auto-condicionantes, nos valores de resistência adesiva de um selante de fissuras ao esmalte, em condições de contaminação salivar.

Materiais e Métodos

O selante de fissuras (Delton, Dentsply) foi aplicado, após contaminação salivar, sobre o esmalte vestibular de sessenta incisivos humanos condicionados com Xeno III (Dentsply) ou Prompt-L-Pop (3M/Espe). Estes dois grupos foram posteriormente divididos em dois subgrupos (n = 15) de acordo com o momento da fotopolimerização do sistema adesivo: 1) o sistema adesivo foi fotopolimerizado conjuntamente com o selante (co-polymerization), e 2) sistema adesivo e selante foram fotopolimerizados independentemente (independent polymerization). Os espécimes foram armazenados em água (37 °C–24 h) e, posteriormente, submetidos a termociclagem. Os ensaios de resistência adesiva foram realizados numa máquina de testes universal. Os resultados foram submetidos a análise estatística ANOVA duas vias.

Resultados

Não foram registadas diferenças estatisticamente significativas (p = 0,267) entre os sistemas adesivos usados. Os grupos co-polimerizados obtiveram valores de resistência adesiva mais elevados (33,3 ± 9,4 MPa) relativamente aos grupos em que a polimerização foi realizada de forma independente (28,2 ± 4,7 MPa). Mesmo na presença de contaminação salivar, os sistemas adesivos auto-condicionantes testados obtiveram valores de resistência adesiva elevados.

Conclusões

Nas condições testadas, a co-polimerização do sistema adesivo com o selante originou valores de resistência adesiva ao esmalte superiores relativamente à polimerização independente destes dois materiais.